Мала машина для нанесення покриттів PVD

Основний технологічний процес покриття випаровування:

Підготовка перед покриттям → вакуумування → іонне бомбардування → випікання → попереднє плавлення → випаровування → підбирання → обробка поверхні плівки → готовий продукт

1. Підготовка перед покриттям

Процес включає очищення частин покриття, виготовлення та очищення джерела випаровування, очищення пристосувань для покриття у вакуумній камері, встановлення джерела випаровування, встановлення частин покриття тощо.

(1) Очищення та обробка покритих деталей:

Величина сили зв'язку між шаром плівки та поверхнею покритої деталі є важливим показником якості продукту. Це визначається багатьма факторами, і обробка поверхні перед нанесенням покриття є одним з основних факторів. Якщо на поверхні покритої деталі є жир, адсорбована вода, пил тощо, це зменшить силу з’єднання плівки та вплине на шорсткість поверхні.

Хімічне знежирення. Різноманітні металеві та неметалеві деталі мають застосовувати відповідний процес знежирення та знежирення. Для конкретних методів ви можете шукати знежирення в технічній колонці цього веб-сайту, щоб переглянути відповідні статті.

Електрофільтр. Покриті частини легко заряджаються статичною електрикою під час процесу формування, що може спричинити отвори в шарі плівки або зменшити силу зв’язку плівки, тому перед нанесенням грунтовки необхідно зняти статичну електрику.

Буквар. Зазвичай товщина плівки на нижній частині випаровування становить {{0}}.05~0,1 мкм, тоді як нерівність поверхні звичайних деталей покриття становить 0,5 мкм, а товщина плівки далеко не достатньо для заповнення ям. Щоб зменшити шорсткість поверхні, на поверхню покритих деталей зазвичай наноситься спеціальна ґрунтовка товщиною 7~10 мкм, щоб усунути ямки та досягти ефекту вирівнювання поверхні.

(2) Виробництво джерела випаровування:

Відповідно до вимог використання продукту та матеріалу покритих частин, вибір відповідного матеріалу для випаровування є основною умовою для отримання високоякісної плівки.

Основними принципами вибору металевих плівкових матеріалів є: хороша термічна та хімічна стабільність, висока механічна міцність, низька внутрішня напруга та певна в’язкість, хороше зчеплення з праймером, висока відбивна здатність та виділення газів у вакуумі. малий; широкі джерела матеріалів, низькі ціни та відповідні джерела випаровування.

Для різних матеріалів для випаровування потрібно вибрати відповідне джерело випаровування та метод напилення.

(3) Очищення вакуумної камери та пристосування для покриття:

Якщо вакуумна камера з внутрішньою кришкою забруднена, кришку можна зняти для очищення або заміни. Якщо внутрішнього покриття немає, його можна протерти карбонатом кальцію, потім протерти водою і, нарешті, протерти безводним етанолом.

Алюмінієві світильники, які зазвичай використовуються, можна замочити в 20-відсотковому розчині NaOH, доки поверхня не стане коричневою, потім промити проточною водою, замочити в HNO3, доки коричнева не зникне, а потім промити й висушити.

(4) Встановіть джерело випаровування:

Обережно надягайте рукавички для знежирення, а інструменти слід попередньо знежирити. Зверніть особливу увагу на хороший контакт між джерелом випаровування та електродом.

(5) Розмістіть пластинчасті частини:

Його слід розташувати на землі пластинчастих частин і пластинчастих частин стабільно та міцно, щоб запобігти викиданню пластинчастих частин із приладу через обертання приладдя під час випаровування. Одягніть рукавички для знежирення, не розмовляйте та тримайте в чистоті кріплення покритої деталі.

2. Вакуумний крок

Відкрийте клапан охолоджувальної води, відрегулюйте необхідний тиск води, підключіть основне джерело живлення, закрийте атмосферний клапан, що веде до вакуумної камери, закрийте клапан трубопроводу, запустіть джерело живлення механічного насоса та відкрийте клапан попереднього вакууму. У цей час механічний насос вакуумує вакуумну камеру, потім бомбардування провідністю, включає потужність нагріву дифузійного насоса та закриває попередній вакуумний клапан. Коли дифузійний насос досягає робочих вимог, закрийте вакуумний клапан, відкрийте клапан трубопроводу та відкрийте клапан високого вакууму. , Дифузійний насос, механічний насос для накачування вакуумної камери, коли вакуум досягає певного значення, запікають, попередньо розплавляють і випаровують.

3. Іонне бомбардування

Під час тліючого розряду іони бомбардують електрони для досягнення високої швидкості, і пластинчасті частини швидко заряджаються негативно через велику рухливість електронів. На поверхні відбувається обмін енергією, і між шаром адсорбції покриття та активним газом відбувається хімічна реакція для досягнення ефекту очищення поверхні.

Умови іонного бомбардування такі, що тиск залишкового газу стабільний на рівні 0.13~13Па, напруга становить 1,5~10 кВ, а час становить 5~60 хв.

4. Випічка

Це може прискорити швидкий вихід газу, адсорбованого покритою частиною або пристосуванням, що є корисним для покращення ступеня вакууму та сили зв’язування шару плівки. Під час випікання слід зазначити, що температура випікання для неметалевих частин має бути на 20~30 градусів нижчою за температуру термічної деформації покритої деталі. Обпал металу зазвичай не перевищує 200 градусів.

5. Попереднє плавлення

Він може видалити домішки з низькою температурою плавлення в матеріалі випаровування та газ, адсорбований у джерелі випаровування та матеріалі випаровування, що сприяє плавному прогресу випаровування. Речовина повинна бути попередньо розплавлена ​​неодноразово, і загальна вимога полягає в тому, що коли матеріал для випаровування нагрівається до температури випаровування, ступінь вакууму не падає.

6. Випаровування

Технологія випаровування має великий вплив на якість покриття та пред'являє різні вимоги до загальних металів, спеціальних металів і сполук. Наприклад, деякі метали потрібно швидко випаровувати, а інші не підходять. Спосіб нагрівання та форма джерела випаровування також повинні бути. Це залежить від матеріалу випаровування.

Longkou Bit спеціалізується на виробництві обладнання для вакуумного покриття PVD, а також надає клієнтам продаж PVD обладнання, продаж вакуумних аксесуарів і витратних матеріалів, технічне обслуговування та ремонт, технічну консультацію, здачу під ключ та інші послуги. Обладнання PVD в основному включає: багатодугове обладнання для вакуумного нанесення іонного покриття, обладнання для вакуумного покриття магнетронним розпиленням, обладнання для вакуумного покриття серії випаровування та інше обладнання для композитного вакуумного покриття мономеру та безперервної лінії, яке в основному використовується для металевих і неметалевих, пластикових, композитних матеріалів та інших поверхонь проекти обробки, обладнання для вакуумного покриття застосовується в різних галузях промисловості, включаючи обладнання, прес-форми, кераміку, сантехніку, годинники, 3C, оптику, косметику, автомобілі, зв'язок та інші галузі.

застосування

Параметр

Наша компанія

Популярні Мітки: невелика машина для нанесення покриттів pvd, Китай, постачальники, виробники, фабрика, на замовлення, купити, ціна, котирування